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在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。 等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。 等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。

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随着半导体工艺的不断发展，对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高，传统的机械抛光技术已经不能满足需求。不锈钢卷带抛光设备作为一种新兴的表面处理技术，具有、、无污染等优点，在半导体行业中的应用前景广阔。不锈钢卷带抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物，还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面，具有重要的应用价值。

由于链条属于带有中间挠性件的啮合传动，所以可获得准确的平均传动比。链条预紧力小，所以链条轴压力小，而传递的功率较大，效率较高，链条还可以在高温、低速、油污、粉尘等情况下工作。 与齿轮传动相比，两轴中心距较大，制造与安装精度要求较低，成本低廉。链条运转时不能保持恒定的瞬时传动比和瞬时链速，所以传动平稳性较差，工作时有噪音且链速不宜过高。

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