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等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

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等离子抛光技术可以用于金属材料的表面处理，实现去除污染物、氧化层、缺陷和微观结构的调控等多种表面处理效果。它可以应用于制造业、电子工业、航空航天、等多个领域，为不同材料和行业的发展提供支持和保障。等离子抛光技术是一种可扩展的表面处理技术，可以通过不同的处理参数、气体、电源和设备等方面的调节和优化，实现对不同材料和表面处理效果的适配和优化。同时，等离子抛光技术还可以与其他表面处理技术相结合，实现更加复杂和多样化的表面处理效果，提高了其应用的灵活性和适用性。

通风等离子抛光的成本主要体现在用水、用电、挂具损耗和抛光盐损耗上面，铜等离子抛光、抛光时间长短和工件自身大小直接决定成本高低：抛光时间长、抛光效果一定好、但通电时间也会延长、耗电量相增加、挂具因为延长时间也会增加损耗、抛光盐也会因为时间延长失效也会提前、在用水上面也会增加，在这些成本中电费成本是成本。综上所述铜等离子抛光成本要控制到合理的方法是只要的达到要求、抛光时间，考虑到成本还可以结合手抛光或者机械抛光做铜等离子抛光的预处理、把抛光去除量多的交给预处理完成、这样省时省力才能把成本做到。

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