传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备,从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等,过程繁琐,效率低下,且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式,可以快速、地抛光金属表面,使其变得光滑,亮丽,达到理想的质感。 等离子抛光技术是指利用离子放电原理,通过高能量的放电通道来抛光材料表面,从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式,等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质,一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理,省去了企业高昂的购机成本。此外,等离子抛光技术效率极高,一分钟即可抛光100多件产品,抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm,粗糙度(RMS)可达0.01微米,生产效率得到大幅提升。
在高温超高电流的作用下,电解质水产生电离子,分离化学液态电浆,利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子,等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。 等离子抛光的过程中涉及到化学变化,其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程,其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质,这些中性物质称其为自由基,与原来的气体分子相比,这些自由基是活跃的刻溶剂。 等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理,还包含物理方法的去除原理,但主要的还是气相化学反应去除原理。
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一,可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理,使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,实现表面微观整平。抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,使得放电通道更多选择在凸起的位置形成,粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长,粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术,为提高产品质量提供了强有力的保障。
您好,欢迎莅临八溢,欢迎咨询...
触屏版二维码 |