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在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。 等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。 等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。

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视频作者：东莞市八溢自动化设备有限公司

等离子抛光技术可以通过控制处理参数，实现对表面处理效果的控制和可重复性。它可以保证每个工件的表面处理效果基本一致，减少了生产过程中的变异性和浪费，提高了产品的一致性和品质。 等离子抛光技术采用的是无污染的等离子体进行表面处理，避免了传统的化学处理过程中的和毒性危害。同时，等离子技术还可以运用在真空或者惰性气体环境下进行处理，避免了氧化和腐蚀的风险，保障了生产环境和工作人员的安全。

等离子抛光是靠离子轰击来工作的、等离子抛光是要靠时间累积实现的，时间越久抛光越平整、但成本也会上升、控制成本也就要控制时间，要找到一个合适点、既能达到品质又能节约时间的那个点，等离子抛光不能取得传统抛光的开粗，因为这道工序材料去除量很大，交给等离子抛光来完成需要很长时间成本不划算，等离子抛光可以取代传统抛光行业的半精抛和精抛工序、这些工序在传统抛光行业里面技术要求高的用等离子抛光来实现就很简单。

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