等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平,利用离子放电原理,使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成,则微观凸起位置的材料优先去除,表面粗精度降低。一定条件下抛光所能达到的粗糙度值取决于放电所形成的坑痕的深度,坑痕深度越小,粗糙度值越小。对于抛光开始阶段呈现出的粗糙度快速下降趋势,是因为在抛光的前5分钟,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,而凸起的位置电场强度大,因此放电通道更多地选择在凸起的位置形成,粗糙度下降速度快,随着抛光时间的延长,样件凹凸不平的状态得到改善,放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱,因此粗糙度下降的速度减小。
抛光设备厂家的设备功率一定的情况下、就决定它所抛光产品的表面积一定、换句话说就决定了抛光产品的数量、我们抛光槽就是根据抛光产品数量来设计的、常用普通产品是完全可以满足满功率生产的、特殊产品除外,但也可以设计的抛光槽。八溢自动化设备有限公司是专”生产抛光设备厂家、和配套设备的厂家、在设备配置和设计上都是有一定的科学依据的、值得信耐的。
抛光液的温度越低,材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低,抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多,相同条件下生成的气体越少,包围在零件周围的混合气体层越薄,而在压强和电压不变的情况下,气体变薄就意味着电场强度增大,导致碰撞电离系数显著增大,虽然总的碰撞距离减小,但仍然有更多的电子冲击到工件表面,材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下,混合气体层较薄,也意味着气体层不太稳定,等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大,同时气体层薄也意味着系统的电阻减小,电流增大,且电流值大幅度变化,常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象,这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。 随着抛光液温度的提高,等离子纳米抛光过程开始稳定,90-100属于理想加工温度范围,在这一范围内材料的去除速度虽然不是快,却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强,混合气层温度升高厚度增加,加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°C时,等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾,蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中,其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高,此时被加工表面电流也会减小。
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