随着半导体工艺的不断发展,对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高,传统的机械抛光技术已经不能满足需求。不锈钢镜面等离子抛光设备作为一种新兴的表面处理技术,具有、、无污染等优点,在半导体行业中的应用前景广阔。不锈钢镜面等离子抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物,还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面,具有重要的应用价值。
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一,可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理,使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,实现表面微观整平。抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,使得放电通道更多选择在凸起的位置形成,粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长,粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术,为提高产品质量提供了强有力的保障。
等离子抛光是靠离子轰击来工作的、等离子抛光是要靠时间累积实现的,时间越久抛光越平整、但成本也会上升、控制成本也就要控制时间,要找到一个合适点、既能达到品质又能节约时间的那个点,等离子抛光不能取得传统抛光的开粗,因为这道工序材料去除量很大,交给等离子抛光来完成需要很长时间成本不划算,等离子抛光可以取代传统抛光行业的半精抛和精抛工序、这些工序在传统抛光行业里面技术要求高的用等离子抛光来实现就很简单。
您好,欢迎莅临八溢,欢迎咨询...
触屏版二维码 |