在高温超高电流的作用下,电解质水产生电离子,分离化学液态电浆,利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子,等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。 等离子抛光的过程中涉及到化学变化,其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程,其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质,这些中性物质称其为自由基,与原来的气体分子相比,这些自由基是活跃的刻溶剂。 等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理,还包含物理方法的去除原理,但主要的还是气相化学反应去除原理。
1.机械抛光 机械抛光是靠切削或使材料表面发生塑性变形而去掉工件表面凸出部得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可达到Ra0.008 μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中表面粗糙度好的。光学镜片模具常采用这种方法。 2.化学抛光 化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,。化学抛光得到的表面粗糙度一般为Ra10 μm。 3.电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,它可消除阴极反应的影响,效果较好。 4.超声波抛光 超声抛光是利用工具断面作超声波振动,通过磨料悬浮液抛光脆硬材料的一种加工方法。将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。 5.流体抛光 流体抛光是依靠流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动,介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺入磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。 6.磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工,质量好,加工条件容易控制。 7.电火花超声复合抛光 为了提高表面粗糙度Ra为1.6 μm以上工件的抛光速度,采用超声波与的高频窄脉冲高峰值电流的脉冲电源进行复合抛光,由超声振动和电脉冲的腐蚀同时作用于工件表面,迅速降低其表面粗糙度。 8.等离子抛光、利用等离子的放电功效、将产品微观凸起的部分离子相对集中、达到去毛刺、整平的功效、操作简单方便、精度也很好控制、是市面上相对较优的抛光方式。
等离子抛光技术具有、高精度、低污染和广泛适用性等优点,同时还可以降低表面处理成本。它可以取代传统的机械抛光和化学抛光过程,减少材料的损耗和加工时间,并且不需要使用大量的化学药剂和设备,降低了表面处理的成本。此外,等离子抛光技术还可以实现自动化生产,减少了人力成本和生产周期,提高了生产效率和经济效益。
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