粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一,抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。
1.机械抛光 机械抛光是靠切削或使材料表面发生塑性变形而去掉工件表面凸出部得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可达到Ra0.008 μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中表面粗糙度好的。光学镜片模具常采用这种方法。 2.化学抛光 化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,。化学抛光得到的表面粗糙度一般为Ra10 μm。 3.电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,它可消除阴极反应的影响,效果较好。 4.超声波抛光 超声抛光是利用工具断面作超声波振动,通过磨料悬浮液抛光脆硬材料的一种加工方法。将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。 5.流体抛光 流体抛光是依靠流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动,介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺入磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。 6.磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工,质量好,加工条件容易控制。 7.电火花超声复合抛光 为了提高表面粗糙度Ra为1.6 μm以上工件的抛光速度,采用超声波与的高频窄脉冲高峰值电流的脉冲电源进行复合抛光,由超声振动和电脉冲的腐蚀同时作用于工件表面,迅速降低其表面粗糙度。 8.等离子抛光、利用等离子的放电功效、将产品微观凸起的部分离子相对集中、达到去毛刺、整平的功效、操作简单方便、精度也很好控制、是市面上相对较优的抛光方式。
等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团.离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,项刻间会使物体达到表面光亮的效果。抛光一次会导致工件向上的部分效果会会稍微差一些、所以需要抛两次、就是把效果稍差的一面翻转180°、再做一次、即可做到均匀。
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