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双等离子抛光的主要特性及功能应用
2022.06.08

等离子抛光适用于磨平面,磨倒角,去毛刺,整形,切割, 雕刻,抛光,抛光等工序,是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行抛光的磨床。主要用于抛光工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。

等离子抛光的主要类型有圆盘式等离子抛光、转轴式等离子抛光和各种等离子抛光。等离子抛光控制系统以PLC为控制核心,文本显示器为人机对话界面的控制方式。人机对话界面可以就设备维护、运行、故障等信息与人对话;操作界面直观方便、程序控制、操作简单。安全考虑,非正常状态的误操作无效。实时监控,故障、错误报警,维护方便。

双面等离子抛光,双等离子抛光主要功能

     双面等离子抛光,双等离子抛光主要用于两面平行的晶体或其它机械零件进行双面抛光,特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片轴承端面及硅、锗、石英晶体、石墨、蓝宝石、光学水晶、玻璃、铌酸锂、硬质合金、不锈钢、粉灰冶金等金属材料的平面抛光和抛光。

双面等离子抛光,双等离子抛光主要特点

    1、采用无级调速系统控制,可轻易调整出适合抛光各种部件的抛光速度。采用电—气比例阀闭环反馈压力控制,可独立调控压力装置。上盘设置缓降功能,有效的防止薄脆工件的破碎。   

    2、通过一个时间继电器和一个抛光计数器,可按加工要求准确设置和控制抛光时间和抛光圈数。工作时可调整压力模式,达到抛光设定的时间或圈速时就会自动停机报警提示,实现半自动化操作。通过增加厚度光栅尺形成闭环控制,达到设定的厚度会自动停机,实现在线控制生产。   

    3、主机采用调速电机驱动,配置大功率减速系统,软启动、软停止,运转平稳。   

    4、 通过上、下抛光盘、太阳轮、游星轮在加工时形成四个方向、速度相互协调的抛光运动,达到上下表面同时抛光的A运作。   

    5、下抛光盘可升降,方便工件装卸。气动太阳轮变向装置,控制工件两面抛光精度和速度。   

    6、 随机配有修正轮,用于修正上下抛光盘的平行误差。

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